Aufbau des Raktors mit zwei Qtz. Rohren. Wobei das innere Rohr durch einen Qtz. Deckel geschlossen wird. D.h. ein Doppelschließsystem - VAC Door + Qtz. Door zum verschließen des Reaktors. Einleitung des TEOS Dampfes über Injektoren von der Source End Seite. Wahlweise mit halb oder vollautomatischem Refill System.

The reactor is built with two qtz. tubes. The inner tube is sealed with an additional qtz. door. That means we are using a double closure system - a VAC door + a qtz. door to close the reactor. TEOS vapor is introduced by an injector from the source end side. System can be delivered with half or fully automated refill system.

NITRIDE

Aufbau des Raktors mit zwei Qtz. Rohren. Wobei das innere Rohr durch einen Qtz. Deckel geschlossen wird. D.h. ein Doppelschließsystem - VAC Door + Qtz. Door zum verschließen des Reaktors. NH3 und DCS werden über zwei Injektoren von der Source End Seite eingeleitet. Für Nitride Low Stess Anwendungen kommen zwei Injektor Paare zum Einsatz. Durch Verwendung eines konischen Innenrohres auf der Source End Seite sowie den Einsatz der Qtz. Door sind alle SST Komponenten weitgehend abgeschirmt und damit die Abscheidung von Amoniumchlorid verhindert.

The reactor is built with two qtz. tubes. The inner tube is sealed with an additional qtz. door. That means we are using a double closure system - a VAC door + a qtz. door to close the reactor. NH3 and DCS are introduced over two injectors from the source end side. For Nitride Low Stress aplications we are using two pairs of injectors. Because of using a conical inner tube at the source end side and a qtz. door at the load end side all SST komponents are to a large extent shielded, this prevents ammonium-chloride built up.

POCL 3

Um die Verteilung von POCL3 im Reaktor zu verbessern wird ein doppelwandiges Prozessrohr eingesetzt. Laser gebohrte Löcher im Innenrohr verteilen POCL3 gleichmäßig über den Waferload. Zusätzlich wird der Waferload kontinuierlich bewegt. D. h. die Boatloader Mechanik bekommt einen Zusatz um eine Oszilation zu unterstützen.

To have a better distribution of POCL3 in the reaktor we are using a double wall process tube. Laser drilled holes in the inner tube distribute POCL3 over the wafer load. Additional to that the boatloader will be modified able to oszilate during process.

Da ein SiC Paddle die Wafer von der Unterseite abschirmt haben wir die Möglichkeit auf ein Dual Rod System umzustellen. Zwei Keramikstangen umhüllt von Qtz. Tubes dienen als Aufnahme für die Waferboote.

Because a SiC paddle shields the wafer from the bottom we have the possibility to use a dual rod setup for the boatloader. Two ceramic rods covered by qtz. tubes hold the wafer boat.